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闸门式循环比可调氧化沟装置及其操作方法
2018-07-04 10:34  

专利名称

闸门式循环比可调氧化沟装置及其操作方法

申请日期

2012年7月16日

授权日期

2013年12月4日

专利持有方

天津城建大学

发明人

于静洁

技术领域

闸门式氧化沟装置

专利种类

发明专利

申请号/专利号

201210245423

取得方式

自行研发

专利简介

本发明公开了一种闸门式循环比可调氧化沟装置及其操作方法,该装置包括厌氧池(2)、氧化沟池(3)和沉淀池(4),在厌氧池(2)内部设置有第一搅拌器(9);氧化沟池(3)划分为好氧区和缺氧区,在好氧区起始端和缺氧区起始端分别设置有闸门式循环比调控设备(12),在好氧区内设置有立式表曝机(11),在缺氧区内设置有第二搅拌器(10),本发明的优点是:不改变其它运行参数,不使用化学药剂,仅通过调节循环比可以显著提高氧化沟的除污效果,并且可以使脱氮除磷同时达到较高去除率。与实现相同处理效果的其它活性污泥工艺相比,可节省耗氧量和耗电量。

转让方式

面议

转让价格

面议

联系人

程老师

联系电话/传真

022-23085179 / 022-23085032

邮政编码

300384

通讯地址

天津市西青区津静路26号天津城建大学科技处

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